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アイテム / 電子衝撃蒸着とSiイオン注入により単結晶Si基板上に形成した非晶質Si層の低エネルギーイオン照射による低温結晶化 / 理甲239 本文 1
理甲239 本文 1
ファイル | ライセンス |
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ファイル名 | 理甲239 本文 1.pdf | |||||
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本文URL | https://kanagawa-u.repo.nii.ac.jp/record/12576/files/理甲239 本文 1.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 31.4 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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