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  1. C0700 総合理学研究所
  2. 03 紀要論文
  3. 01 Science Journal of Kanagawa University
  4. 0290 29巻

n-型ダイヤモンド半導体へのオーミック電極構造形成法の研究(1)

http://hdl.handle.net/10487/00015635
http://hdl.handle.net/10487/00015635
bf7e625c-5929-47a1-917a-f004e746c7a5
名前 / ファイル ライセンス アクション
05 05 n-型ダイヤモンド半導体へのオーミック電極構造形成法の研究(1) (5.6 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2019-06-07
タイトル
タイトル n-型ダイヤモンド半導体へのオーミック電極構造形成法の研究(1)
言語 ja
タイトル
タイトル Research for Ohmic Electrode Formation of n-type Diamond Semiconductors
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 n-type diamond substrate
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 ohmic contact
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 graphite layer
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 TiC compound
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 triplelayer
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 electrode
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 ion implantation
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 metal evaporation
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 中田, 穣治

× 中田, 穣治

ja 中田, 穣治

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新井, 健

× 新井, 健

ja 新井, 健

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佐藤, 秀人

× 佐藤, 秀人

ja 佐藤, 秀人

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関, 裕平

× 関, 裕平

ja 関, 裕平

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内藤, 隆平

× 内藤, 隆平

ja 内藤, 隆平

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星野, 靖

× 星野, 靖

ja 星野, 靖

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 We have investigated the ohmic electrode structures necessary for the minute evaluation of electric properties of diamond semiconductors. Firstly, we constructed two-types of electrode for triple-layers made of Au/Pt/Ti metals. The Ti layer, which directly contacts the diamond substrate, was formed by two methods. One was Ti evaporation, and the other was Ti ion implantation that induces a graphite-like carbon (GLC) layer in the substrate simultaneously. We compared the electrical properties of these two-types of electrode using the Van der Pauw method. A good ohmic property was confirmed in the Au/Pt/GLC layer (Ti implantation) electrode at temperatures from 300 to 800°C, where the GLC layer was formed by Ti ion implantation with a total fluence of 1×1016 cm-2 at room temperature. Secondly, we aimed to simplify the electrode structures by forming a low-resistance GLC layer using Ar ion implantation (GLC (Ar implantation) electrode), instead of Ti irradiation. We also formed a single-layer electrode using Au evaporation. We compared the electric properties of these two-types of electrode by the Van der Pauw method. The ohmic contact properties were evaluated by I-V measurements at temperatures from 300 to 800°C. As a result, a good ohmic property for the n -type Ib diamond substrate with the Au/Pt/GLC (Ar irradiation) electrode structure was obtained at temperatures from 300 to 800°C. However, a good ohmic property was not observed at temperatures higher than 600°C in cases of conventional Au/Pt/Ti (evaporation) and the Au singlelayer electrode without the GLC layer. The GLC layer was therefore found to be necessary to obtain the fine ohmic property for the n -type Ib diamond. Finally, we measured ohmic properties of the Au/Pt/GLC (Ar implantation) electrode structure with a wide range of measuring voltages of around ±100 V. We succeeded in obtaining good ohmic contract with the diamond Ib substrate over a comparatively wide temperature range of 300-600°C.
言語 en
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 原著
言語 ja
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 2017年度神奈川大学総合理学研究所共同研究助成論文
言語 ja
書誌情報 en : Science Journal of Kanagawa University

巻 29, p. 19-32, 発行日 2018-06-30
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 1880-0483
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA12068302
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
その他の言語のタイトル
その他のタイトル Research for Ohmic Electrode Formation of n -type Diamond Semiconductors
出版者
出版者 神奈川大学総合理学研究所
言語 ja
出版者
出版者 Research Institute for Integrated Science, Kanagawa University
言語 en
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Ver.1 2023-05-15 14:49:51.859813
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